ESTUDO SOBRE A INFLUÊNCIA DO TEMPO DE EXPOSIÇÃO DO SUBSTRATO DE ALUMÍNIO AO TRATAMENTO POR PLASMA ELETROLÍTICO

STUDY ON THE INFLUENCE OF TIME OS EXPOSURE TO THE PLASMA ELECTROLYTIC TREATMENT ON AN ALUMINUM SUBSTRATE

PAIVA, Dannylo Soares; SILVA, Hugo Fernandes Medeiros da; TOSCANO, Tarciana Dieb; MENEZES, Francisco Leonardo Gomes de; VELARDEZ, Gustavo Fábian; JUNIOR, Clodomiro Alves

Completo:

O tratamento de superfície dos materiais tem por finalidade conferir ao material novas características sem alterar suas propriedades internas e, como consequência disso, aumentar o campo de suas aplicações. Neste trabalho uma técnica relativamente nova foi utilizada para criar filmes finos de óxidos em alumínio, denominada Plasma Eletrolítico de Oxidação (PEO). Amostra de uma liga de alumínio foi tratada pelo processo de PEO, com diferentes tempos de exposição, que variaram de 600 s a 1200 s. Este trabalho objetivou melhorar o entendimento da técnica de PEO, além de observar e caracterizar a formação do filme que foi conferido a superfície do substrato metálico. No que tange a caracterização das amostras, foi realizada a Microscopia óptica, calculada a variação de peso das amostras, Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV) e DRX com incidência rasante. Os resultados mostraram que o crescimento do filme é influenciado pelo tempo de exposição . A análise por microscopia óptica na amostra de 900 s mostra um importante crescimento do filme, apesar de não ter a maior quantidade de deposição. É também observado que o crescimento do filme é homogêneo.

Material surface treatment aims to provide the new characteristics of the material without changing its internal properties, and as a result, increases the reach of their applications. In this study, a relatively new technique called Plasma Electrolytic Oxidation (PEO) was used to ceramic thin films. Aluminum alloy samples was treated by PEO process for different exposition times, ranging from 600 s to 1200 s. This study aimed to improve the investigation about the technique and surfaces properties. Regarding the characterization, optical microscopy, scanning electron microscopy and x-ray diffraction with grazing incidence was use. The results showed that the film growth is influenced by the exposure time. Analysis by optical microscopy at 900 s sample showed a significant growth of the film despite having the largest amount of deposition. It is also observed that the growth of the film is homogeneous

Palavras-chave:

DOI: 10.5151/chenpro-5erq-eng9

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Como citar:

PAIVA, Dannylo Soares; SILVA, Hugo Fernandes Medeiros da; TOSCANO, Tarciana Dieb; MENEZES, Francisco Leonardo Gomes de; VELARDEZ, Gustavo Fábian; JUNIOR, Clodomiro Alves; "ESTUDO SOBRE A INFLUÊNCIA DO TEMPO DE EXPOSIÇÃO DO SUBSTRATO DE ALUMÍNIO AO TRATAMENTO POR PLASMA ELETROLÍTICO", p-963-972. In: Anais do V Encontro Regional de Química & IV Encontro Nacional de Química [=Blucher Chemistry Proceedings].. São Paulo: Blucher, 2015.
ISSN 23184043, DOI 10.5151/chenpro-5erq-eng9